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CVD Equipment Corp从事开发、设计、制造和维修一系列化学气相沉积、气体控制和其他设备和解决方案。该公司的部门包括 CVD/First Nano、SDC 和 CVD 材料。CVD/First Nano 提供化学气相沉积系统,用于航空航天、医疗部件、半导体、发光器件 (LED)、电池纳米材料、碳纳米管、纳米线、太阳能电池和许多其他工业应用领域。SDC 部门为半导体制造工艺、太阳能电池、LED、碳纳米管和纳米线设计和制造超高纯度气体和化学品输送控制系统。CVD 材料部门包括元素和产品组,例如Tantaline和MesoScribe。钽处理是通过化学气相沉积在普通材料表面形成的扩散结合的钽保护层。
名称 | 年龄 | 任期 | 标题 |
---|---|---|---|
Emmanuel N. Lakios | 61 | 2017 | President, CEO & Director |
Robert M. Brill | 77 | 2021 | Independent Director |
Raymond A. Nielsen | 72 | 2016 | Independent Director |
Lawrence J. Waldman | 77 | 2016 | Independent Non-Executive Chairman |
Ashraf Lotfi | 63 | 2023 | Independent Director |
Debra A. Wasser | 59 | 2023 | Independent Director |
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