智通财经APP获悉，东吴证券发布研究报告称，先进封装主要通过两方面提升逻辑芯片的算力：一、提升处理器集成度，从而提升性能;二、提升处理器和存储器间的连接带宽、减小连接功耗，从而解决“内存墙”和“功耗墙”，提升芯片算力。随着AI大语言模型市场的发展，模型训练和推理应用所需算力不断提升。
▍东吴证券主要观点如下：
先进封装本质目的是增加触点连接，以代替制程提升。
量子隧穿效应导致先进制程的研发制造成本过高，而良率过低，先进封装技术能够弥补制程提升的困难。先进封装技术的本质为提升连接效率。其中，重布线层技术(RDL)重新布局裸片I/O触点，支持更多、更密引脚，广泛用于晶圆级封装(WLP);硅通孔技术(TSV)通过将芯片的焊点打穿、在通孔里填充金属材料实现芯片与芯片、芯片与基板的垂直连接，是2.5D和3D封装的关键解决方案;
凸块技术使用凸点(bump)代替传统引线，增加触点、缩小传输距离和电阻;混合键合技术(Hybrid Bonding)通过将芯片或晶圆平面上的铜触点抛光后进行退火处理，使得连接平面完全贴合，以无凸点(Bumpless)的方式缩减连接距离和散热能力。先进封装对制造设备精度、无尘环境、测试精度要求极高。技术升级方向为增加连接效率(如使用玻璃基板代替有机基板)和降低成本(如使用“硅桥”代替硅中介层)。
先进封装赋能高速计算，算力需求提升，先进封装产能供不应求。
先进封装主要通过两方面提升逻辑芯片的算力：一、提升处理器集成度，从而提升性能;二、提升处理器和存储器间的连接带宽、减小连接功耗，从而解决“内存墙”和“功耗墙”，提升芯片算力。随着AI大语言模型市场的发展，模型训练和推理应用所需算力不断提升;
国内新入局AI企业众多，智算芯片需求旺盛。根据IDC，至2026年，国内智算规模可达2023年的3倍。与此同时，供给端高性能GPU产能明显不足，先进封装产能成为主要瓶颈。2023年8月，英伟达表示计划2024年将H100产能拉高至少3倍。2023年9月，台积电表示CoWoS产能只能尽量满足客户80%的需求。先进封装发展前景、国产替代空间广阔。
先进封装行业壁垒高，专业封测厂商不具优势;海外龙头加速扩产，国内企业追赶。
先进封装行业壁垒高，且相比OSAT厂，Fab厂和IDM厂更具优势，主要原因有二：第一，技术精度高，且高度依赖晶圆制造技术、与芯片设计环节的协同，例如重布线层(RDL)、硅通孔(TSV)、混合键合(HB)需要在裸晶本体上进行线路设计、刻蚀、电镀，晶圆厂在技术和硬件方面更有优势;第二，晶圆厂主导了先进封装领域的技术路线和订单分配，封装厂需要与上游厂商密切合作以获取订单。面对高增需求，海外龙头加大扩产力度，但扩产难度大、周期长。台积电、三星、英特尔、日月光纷纷增加先进封装产线，但由于上游设备供应不足等原因，扩产周期普遍达2-3年。
与此同时，国内龙头积极布局先进封装领域。长电科技聚焦XDFOI新技术、2.5D/3D技术的量产;通富微电聚焦消化高端CPU、GPU封装产能，现已涉及AMDMI300的封装;甬矽电子积极研发Fan-in/Fan-out、2.5/3D晶圆级封装相关技术，并大力建厂扩产，未来营收增长空间广阔。
风险提示：
AI算力需求增长不及预期;先进封装技术进展缓慢;国产替代不及预期。