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拓荆科技股份有限公司是一家主要从事半导体薄膜沉积设备的研发、生产及销售的中国公司。该公司主要提供三个系列的产品,等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备可以在硅片表面形成固态薄膜,主要用于存储芯片制造。原子层沉积(ALD)设备主要用于逻辑芯片制造。气相沉积(SACVD)设备主要用于晶圆制造。该公司主要在国内市场销售其产品。
名称 | 年龄 | 任期 | 标题 |
---|---|---|---|
Qian Jiang | 71 | - | Director |
Hanming Wu | 71 | 2021 | Independent Director |
Hongbin Huang | 52 | 2021 | Independent Director |
Guangquan Lv | 58 | - | Chairman of the Board |
Guoqing Zhao | 44 | 2021 | Independent Director |
Xiaoning Fan | 40 | 2022 | Director |
Zhiyao Yin | 79 | 2021 | Director |
Liu Yang | 44 | 2021 | Director |
Ying Guo | 40 | 2021 | Supervisor |
Yang Cao | 41 | 2018 | Supervisor |
Rongwei Xu | 46 | 2021 | Supervisor |
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